避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法.pdfVIP

避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法.pdf

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本发明提供一种避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法。本发明方法包括如下步骤:S1.利用CCOS技术对反应烧结碳化硅反射镜进行细磨使得面型收敛至PV:0.45um,RMS:0.10um;S2.细磨结果后,进行抛光,抛光磨盘材料选用沥青,磨料选用氧化铈,抛光阶段仍然利用干涉仪与CCOS技术相结合进行抛光,在保持面型不变的情况下,观察是否出现白色斑点,如不出现白色斑点则完成该道工序;S3.抛光结束后进行改性镀膜;S4.改性结束后继续抛光至达到产品要求。本发明可以避免镜面表面断层,孔洞等现象,

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113118879 B (45)授权公告日 2022.06.03 (21)申请号 202110414009.7 B24B 49/12 (2006.01) (22)申请日 2021.04

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