避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法.pdfVIP

避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法.pdf

  1. 1、本文档共5页,其中可免费阅读4页,需付费10金币后方可阅读剩余内容。
  2. 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
  3. 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  4. 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供一种避免镜面表面出现断层孔洞的烧结碳化硅的加工方法。本发明方法包括如下步骤:S1.利用CCOS技术对反应烧结碳化硅反射镜进行细磨使得面型收敛至PV:0.45um,RMS:0.10um;S2.细磨结果后,进行抛光,抛光磨盘材料选用沥青,磨料选用氧化铈,抛光阶段仍然利用干涉仪与CCOS技术相结合进行抛光,在保持面型不变的情况下,观察是否出现白色斑点,如不出现白色斑点则完成该道工序;S3.抛光结束后进行改性镀膜;S4.改性结束后继续抛光至达到产品要求。本发明可以避免镜面表面断层,孔洞等现象,

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113118879 B (45)授权公告日 2022.06.03 (21)申请号 202110414009.7 B24B 49/12 (2006.01) (22)申请日 2021.04

您可能关注的文档

文档评论(0)

知识产权出版社 + 关注
官方认证
文档贡献者

知识产权出版社有限责任公司(原名专利文献出版社)成立于1980年8月,由国家知识产权局主管、主办。长期以来, 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作, 经过多年来的积累,已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

认证主体北京中献电子技术开发有限公司
IP属地四川
统一社会信用代码/组织机构代码
91110108102011667U

1亿VIP精品文档

相关文档