一种阴影环及包含该阴影环的反应腔结构.pdfVIP

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2023-06-15 发布于四川
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一种阴影环及包含该阴影环的反应腔结构.pdf

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本发明公开了一种阴影环及反应腔结构，其中阴影环包括：上表面；环形内径；环形外径；下表面；以及多个突出部，其被布置在所述环形外径上；所述突出部内设有拨片结构，拨片结构与所述下表面间设有开合角。一种反应腔结构，包括加热盘，在反应腔室内所述加热盘的外围沿径向依次设置有抽气环、阴影环及陶瓷套；所述陶瓷套套接与加热盘外，加热盘中设有晶圆槽；所述阴影环直接作用于晶圆，将晶圆定位于晶圆槽中，其中所述陶瓷套引导阴影环执行定位动作；应用上述反应腔体结构，实现了晶圆与阴影环的直接定位，同时解决了由传片和通气晶圆偏移

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113151807 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 202110321414.4 (22)申请日 2021.03.25 (71)申请人拓荆科技股份有限公司