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侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法.pdfVIP

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  • 2023-06-15 发布于四川
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侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法.pdf

    本发明公开了一种侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，包括：步骤一、在晶圆工件台上设置压力传感器；步骤二、将浸没罩从排水模式切换成吹气模式；步骤三、将浸没罩的各排液孔独立扫过压力传感器并记录各排液孔对应的压力值；步骤四、根据浸没罩的各排液孔的压力值确定浸没罩的各排液孔的堵塞状态。本发明能快速侦测浸没罩中的每一个排液孔的堵塞状态。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113204174 A (43)申请公布日 2021.08.03 (21)申请号 202110380414.1 (22)申请日 2021.04.09 (71)申请人 华虹半导体（无锡）有限公司

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