阵列基板的制作方法及阵列基板.pdfVIP

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  • 2023-06-17 发布于四川
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本发明提供一种阵列基板的制作方法及阵列基板,制作方法包括:提供阵列基板,所述阵列基板包括设置在衬底基板上的扫描线和数据线,所述扫描线和所述数据线交叉设置并限定出多个像素区;沉积透明导电薄膜形成透明导电薄膜,在所述透明导电薄膜上涂布光刻胶并进行曝光、显影和检查;通过光刻工艺去除所述待加工区域的光刻胶和透明导电薄膜,所述待加工区域位于所述像素区的边缘;对除所述待加工区域外的所述透明导电薄膜进行刻蚀,形成分别位于所述像素区内且互不连通的多个像素电极。本发明提供一种阵列基板的制作方法及阵列基板,可以有效

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113270365 A (43)申请公布日 2021.08.17 (21)申请号 202110536901.2 (22)申请日 2021.05.17 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司

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