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- 2023-06-17 发布于四川
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本公开提供了一种石墨基板,属于半导体技术领域。所述石墨基板为圆盘,其特征在于,所述石墨基板的外周壁上具有多个环形凹槽,所述多个环形凹槽与所述石墨基板同轴,且所述多个环形凹槽沿所述石墨基板的轴向间隔布置在所述石墨基板的上表面和下表面之间,相邻两个所述环形凹槽之间形成一个格栅,每个所述格栅均为圆环结构。在本公开提供的石墨基板上生长外延片,可以使得外延片各个区域的发光波长一致,从而可以提高外延片的片内均匀性,保证边缘良率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113278953 B
(45)授权公告日 2022.06.17
(21)申请号 202110324243.0 H01L 21/673 (2006.01)
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