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公开了一种用于将钒和/或铟层沉积至衬底的表面上的方法和系统,以及使用所述方法形成的结构和装置。示范性方法包括使用循环沉积工艺,将钒和/或铟层沉积至所述衬底的表面上。所述循环沉积工艺可包括将钒和/或铟前体提供至反应室中,并且单独地将反应物提供至反应室中。所述循环沉积工艺可期望地是热循环沉积工艺。示范性结构可包括场效应晶体管结构,如环栅结构。所述钒和/或铟层可用作例如阻隔层或衬层、功函数层、偶极移位器层等。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113284789 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110103923.X C23C 16/30 (2006.01)
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