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- 2023-06-17 发布于四川
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本发明公开了一种用于小尺寸图形光刻对准的光刻版及芯片光刻方法。用于小尺寸图形光刻对准的光刻版，包括：本体、以及设于本体的至少一个对准标记、多个可视的非正式图形、和多个不可视的正式图形，对准标记大于可视的非正式图形，可视的非正式图形大于不可视的正式图形；对准标记与芯片上的标记相对应，可视的非正式图形与芯片上的图形相对应；多个可视的非正式图形的排列与多个不可视的正式图形的排列存在对应规律。采用本发明，可完成手动接触式光刻过程中无法通过人眼识别对准的小尺寸图形制备；在一版多片的情况下，不仅实现更小尺寸
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113281969 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110390574.4
(22)申请日 2021.04.12
(71)申请人 中国电子科技集团公司第十一研究
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