掩膜框架.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约1.1万字
  • 约 11页
  • 2023-06-19 发布于四川
  • 举报
本发明实施方式涉及显示技术领域,公开了一种掩膜框架,包括:框架本体,所述框架本体包括蒸镀区和位于蒸镀区四周的框臂;至少一条复合支撑条,所述复合支撑条的两端分别固定于相互平行的两个框臂上,每个所述复合支撑条包括:磁性支撑条、以及位于所述磁性支撑条远离所述框臂一侧的非磁性支撑条;所述非磁性支撑条在平行于所述蒸镀区的平面上的正投影完全覆盖所述磁性支撑条在平行于所述蒸镀区的平面上的正投影。利用本实施例中的掩膜框架能够很大程度上提高蒸镀良率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113278917 A (43)申请公布日 2021.08.20 (21)申请号 202110540596.4 (22)申请日 2021.05.18 (71)申请人 合肥维信诺科技有限公司

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档