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以HX为卤源的远端卤代烷基酮及其合成方法.pdfVIP

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  • 2023-06-19 发布于四川
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以HX为卤源的远端卤代烷基酮及其合成方法.pdf

    以HX为卤源的远端卤代烷基酮及其合成方法，氮气氛围下加入环烷基过氧醇和醋酸铜催化剂，再加入HCl、HBr、以及HI溶液作为卤素，常温下搅拌；反应结束后，加入足量的水萃取反应溶剂N‑甲基吡咯烷酮，用饱和食盐水洗涤，最后有机相用无水硫酸钠干燥，将有机相减压浓缩，除去溶剂；将有机相进行柱层析得到目标产物；本发明以工业大宗类原料HCl、HBr、以及HI溶液作为卤素来源，实现C‑C键裂解的自由基卤代，以较高的收率得到远端卤代烷基烷基酮类化合物。反应的副产物是水，减少了环境污染，大大提高了工业生产效益。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113277935 B (45)授权公告日 2022.08.05 (21)申请号 202110516201.7 C07C 45/79 (2006.01) (22)申请日 2021.05

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