经边缘放置误差预测的光致抗蚀剂设计布局图案邻近校正.pdfVIP

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2023-06-22 发布于四川
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经边缘放置误差预测的光致抗蚀剂设计布局图案邻近校正.pdf

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本发明涉及经边缘放置误差预测的光致抗蚀剂设计布局图案邻近校正。公开了为待在蚀刻操作中使用的光致抗蚀剂产生邻近校正设计布局的方法。所述方法可以包括识别初始设计布局中的特征，以及估计在蚀刻工艺期间在所述特征内的特征内等离子体通量(IFPF)的一个或多个数量特性。所述方法还可以包括通过将所述IFPF的所述一个或多个估计的数量特性与查找表(LUT，和/或通过用所述LUT训练的多变量模型的应用，例如通过机器学习方法(MLM)构建的)中的那些进行比较来估计所述特征的边缘放置误差(EPE)的数量特性，所述LU

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113420523 A (43)申请公布日 2021.09.21 (21)申请号 202110532314.6 (74)专利代理机构上海胜康律师事务所 31263

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