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本申请涉及曝光设备技术领域,尤其是涉及一种新型曝光机,包括沿光刻胶传送方向依次设置的放卷装置、曝光装置以及收卷装置,曝光装置包括机架、固设于机架顶部的光刻板、固设于光刻板下方的曝光机构以及盖板机构,盖板机构包括盖设于光刻板顶面的框架、软性压片组件、抽真空组件以及升降组件,软性压片组件封盖于框架内侧,以令光刻板、框架以及软性压片组件可共同形成一抽真空腔体,抽真空组件固设于机架上且与抽真空腔体相连通,升降组件固设于机架上且用于驱动框架沿竖向升降。本申请能够将光刻胶与光刻板之间的残留空气压出,以提高光
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113448180 B
(45)授权公告日 2022.04.01
(21)申请号 202110751162.9 审查员 武晓卫
(22)申请日 2021.07.01
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