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本申请涉及存储器装置中的低电阻通孔触点。可以形成通孔以从周围的材料突出。可以在阵列区域上方以及在通孔上方形成阻隔材料。在阻隔材料上方形成接入线材料的第一层后,可以应用平坦化工艺直到暴露通孔的顶部。平坦化工艺可以从通孔上方去除接入线材料和阻隔材料,而接入线材料和阻隔材料可以保持在阵列区域上方。接入线材料的第一层可以在平坦化工艺期间保护未去除的阻隔材料。接入线材料的第二层可以形成在接入线材料的第一层上方并且与通孔直接接触。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113451205 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202110308268.1
(22)申请日 2021.03.23
(30)优先权数据
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