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本发明公开了一种外延设备中晶圆的传动装置，包括基座、升降模块、旋转模块和调节模块，调节模块中的机架用于承载传动装置的所有组件，以机架为支撑，调整组件通过调节升降模块的底座，实现基座在X轴、Y轴上的位置以及基座的水平度的调节。升降模块的升降轴和顶针实现晶圆的升降，升降模块的整体升降驱动块以底座为支撑，实现旋转模块的整体升降。旋转模块的旋转轴带动基座实现稳定的自转。本发明提供的外延设备中晶圆的传动装置能够使基座上的晶圆保持相对水平并持续、稳定的自转，以保证晶圆在外延过程中均匀地接触热场和工艺气体流场
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116313987 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202211733132.6
(22)申请日 2022.12.30
(71)申请人 浙江求是创芯半导体设备有限公司
地
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