一种阳极靶盘结构.pdfVIP

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2023-06-26 发布于四川
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本发明公开一种阳极靶盘结构，包括盘面层、盘体和基体层；盘面层固定连接于所述盘体的上方；盘体固定连接在所述基体层的上方；盘面层包括端面以及设置在端面外侧位置的环形侧面；端面与环形侧面之江形成有外环边沿；端面上具有承载电子束轰击并产生X射线的环形轰击区；阳极靶盘上布设有经过激光冲击强化后形成的残余压应力冲击坑；所述残余压应力冲击坑由所述盘面层的环形侧面以及所述盘面层的端面中位于环形轰击区的外边缘与外环边沿之间的区域组成。本发明的有益效果是：通过采用上述技术方案中的残余压应力冲击坑结构设计，进而能够获

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116313702 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310352275.0 (22)申请日 2023.04.04 (71)申请人南通大学地址 226000