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本发明公开了一种色散优化弯曲不敏感光纤，其在芯层和下陷包层之间，设有过渡下陷包层，所述过渡下陷包层的相对折射率差由内而外从0%连续变化至下陷包层的交界点的相对折射率差。本发明采用双下陷包层对波导色散和宏弯性能进行平衡优化，保证光纤的弯曲性能不受影响的前提下降低其色散系数；其中处于芯层和下陷包层之间的过渡下陷包层，其折射率连续变化，来降低波导结构中芯层与包层的折射率差异带来的波导色散，限定过渡下陷包层的折射率分布和宽度，优化了色散系数，避免了凸起包层带来的在小弯曲半径下的弯曲损耗过大的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113625390 B
(45)授权公告日 2021.12.31
(21)申请号 202111195958.7 (56)对比文件
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