1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

制备高通量薄膜的磁控溅射装置及其制备高通量薄膜的制备方法.pdfVIP

  • 7
  • 0
  • 约9.98千字
  • 约 10页
  • 2023-06-28 发布于四川
  • 举报

制备高通量薄膜的磁控溅射装置及其制备高通量薄膜的制备方法.pdf

    一种制备高通量薄膜的磁控溅射装置，包括基体、基片台、圆筒、带齿圆环和掩模组件，所述带齿圆环安装在圆筒的上端处，所述掩模组件安装在圆筒的下端处，所述基体位于圆筒内且与带齿圆环可转动连接，基片台安装在基体的底部上，所述基体上设有第一真空电机，第一真空电机的电机轴上设有第一齿轮，所述第一齿轮与带齿圆环的齿形结构啮合，第一真空电机用于驱动基体相对于掩模组件旋转。本发明提供了一种制备高通量薄膜的磁控溅射装置及其制备高通量薄膜的制备方法，该装置结构简单，适用于小型的磁控溅射镀膜机上，一次抽气完成实验并且不需

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111004999 A (43)申请公布日 2020.04.14 (21)申请号 20191

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >