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基板处理设备和基板处理方法.pdfVIP

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  • 2023-07-01 发布于四川
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基板处理设备和基板处理方法.pdf

    本发明公开了一种基板处理设备，所述基板处理设备包括：支撑单元，所述支撑单元支撑所述基板并使其旋转；加热单元，所述加热单元包括以形成在基板中的图案照射激光的激光照射器；移动模块，所述移动模块通过使加热单元移动来改变激光照射器的位置；以及控制器，所述控制器控制所述支撑单元和所述加热单元，所述移动模块使加热单元在激光照射到基板的加热位置和与基板偏离的待机位置之间移动，并且所述移动模块使所述加热单元旋转和线性地移动。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116364622 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202211704296.6 (22)申请日 2022.12.28 (30)优先权数据

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