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本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。在宽带照明光中抑制转印性能的降低。一种使用包括第1波长范围和第2波长范围的波长范围的光曝光基板的曝光装置，具有用光照明掩模的照明光学系统和将掩模的图案的像投影到基板的投影光学系统，照明光学系统以在其瞳面中以其光轴为中心使作为至少包括第1波长范围的光的光强度分布的第1光强度分布的至少一部分比作为至少包括第2波长范围的光的光强度分布的第2光强度分布更靠内侧的方式形成包括第1光强度分布和第2光强度分布的光强度分布，满足第1波长范围包括比第2波长范围的最短
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113721427 A
(43)申请公布日 2021.11.30
(21)申请号 202110549216.3
(22)申请日 2021.05.20
(30)优先权数据
2020-0901
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