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一种半导体用冷却盘的清洗方法.pdfVIP

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  • 2023-07-02 发布于四川
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一种半导体用冷却盘的清洗方法.pdf

    本发明提供了一种半导体用冷却盘的清洗方法，所述清洗方法包括以下步骤：(1)分别独立地向进液口和出液口通入清洗液；(2)同时向进液口和出液口通入清洗液进行保压；(3)对进液口或出液口进行冲洗；(4)依次进行超声清洗和真空干燥；(5)分别独立地向进液口和出液口进行吹气，清洗完毕；所述清洗方法通过单双向多次清洗，并结合多种清洗手段，彻底清除了冷却盘水道内的废屑，防止废屑在冷却盘使用过程中造成水管道堵塞，损坏冷却设备。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113714215 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202110982147.5 (22)申请日 2021.08.25 (71)申请人 宁波

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