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- 2023-07-05 发布于四川
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本发明实施例公开了一种晶圆的图形刻蚀方法、薄膜谐振器组件及制备方法。该晶圆的图形刻蚀方法包括：提供晶圆，晶圆包括图形区域和包围图形区域的去边区域；在去边区域形成刻蚀阻挡层，其中，晶圆和刻蚀阻挡层的刻蚀选择比大于或等于预设刻蚀选择比；在晶圆的表面形成光刻胶，其中，光刻胶覆盖图形区域和/或去边区域；对光刻胶进行去边处理；对光刻胶进行曝光和显影处理，以形成掩膜图形；根据掩膜图形，对晶圆的表面进行刻蚀处理，以形成刻蚀图形；去除掩膜图形；去除刻蚀阻挡层。本发明实施例提供的技术方案，实现了一种无凹陷结构、制
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113808922 A
(43)申请公布日 2021.12.17
(21)申请号 202111073094.1 H03H 9/58 (2006.01)
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