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- 2023-07-05 发布于四川
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本发明公开了一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及其中间体。本发明的光产酸剂如式I所示。含有本发明的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113698329 A
(43)申请公布日 2021.11.26
(21)申请号 202110979288.1 C07C 69/753 (2006.01)
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