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本发明公开了提供一种flash存储器的制备方法,包含:提供基底,在基底上形成隧穿氧化层;在隧穿氧化层上依次沉积层间绝缘膜和金属间绝缘膜;去除层间绝缘膜和金属间绝缘膜内的水汽;以及沉积紫外线氮化硅薄膜以覆盖层间绝缘膜和金属间绝缘膜。该方法在紫外线氮化硅薄膜沉积步骤之前添加融合过程,改善了flash存储器的循环性能。本发明同时提供一种使用该方法制备的flash存储器。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113809085 A
(43)申请公布日
2021.12.17
(21)申请号 20201
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