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- 2023-07-05 发布于四川
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本发明提供III族氮化物晶体、III族氮化物基板及III族氮化物晶体的制造方法。提供具有优异的导电性和低吸光系数的III族氮化物晶体。III族氮化物晶体掺杂有N型掺杂剂和锗元素,N型掺杂剂的浓度为1×1019cm‑3以上,锗元素的浓度为N型掺杂剂的浓度的9倍以上。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113802185 A
(43)申请公布日 2021.12.17
(21)申请号 202110645249.8 C30B 25/02 (2006.01)
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