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抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法.pdf

    本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明提供一种抗蚀剂下层膜材料，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜材料，含有：(A)下列通式(1)表示的化合物；及(B)有机溶剂。式中，X各自独立地为下列通式(2)表示的1价有机基团。W含有m个下式(3)表示的独立的部分结构。m、n为1～10的整数。式中，虚线表示原子键。Z表示芳香族基团。A为单键、或‑O‑(CH2)p‑。k为1～5的整数。p为1至10的整数。式中，虚线表示原子键。R01为氢原子或碳数1～10的一价有机基团。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113805434 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 202110646782.6 (51)Int.Cl.

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