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本发明公开了一种无金场板GaN基射频器件及其制作方法,该器件包括:衬底、依次位于衬底一侧的成核层、缓冲层、沟道层、势垒层,以及位于势垒层远离衬底一侧的源电极、栅电极、漏电极、钝化层和源场板,钝化层包括凹槽;源电极和漏电极相对设置于势垒层的第一表面的两侧,栅电极位于源、漏电极之间;钝化层覆盖于栅电极远离势垒层的表面,且与源电极、漏电极和第一表面相触;沿垂直于衬底所在平面的方向,凹槽的正投影位于栅、漏电极之间;至少部分源场板位于凹槽内,源场板与源电极电连接。本发明通过引入凹槽源场板结构,能够在产生同
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113809160 A
(43)申请公布日 2021.12.17
(21)申请号 202110984119.7
(22)申请日 2021.08.25
(71)申请人 西安
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