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本发明属于激光器领域,本发明公开了一种二维光谱合成装置,该装置包括:沿光路传播方向依次设置的二维光纤光源阵列、高线密度多层介质膜光栅Ⅰ、高线密度多层介质膜光栅Ⅱ、低线密度多层介质膜光栅Ⅰ和低线密度多层介质膜光栅Ⅱ。本发明提供的二维光谱合成装置能够减小多路子光源光谱合成时对大口径、长宽比例大的光学元件的需求,减小合成装置的体积,降低合成装置的成本,实现更高功率的光谱合成输出,为光谱合成装置的广泛应用提供了可能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113794100 B
(45)授权公告日 2022.02.08
(21)申请号 202111344063.5 H01S 3/23 (2006.01)
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