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一种干法刻蚀设备的腔体清理方法、装置、终端和介质.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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一种干法刻蚀设备的腔体清理方法、装置、终端和介质.pdf

    本申请适用于干法刻蚀领域，提供了一种干法刻蚀设备的腔体清理方法、装置、终端和介质。其中，上述干法刻蚀设备的腔体清理方法具体包括：获取依序进入所述干法刻蚀设备的多个晶圆中每个晶圆对应的在所述干法刻蚀设备的腔体内目标元素的元素浓度；根据所述元素浓度，计算N种间隔时长中每种间隔时长分别对应的自相关系数；若所述N种间隔时长的每个目标时间间隔分别对应的自相关系数中存在符合预设条件的自相关系数，则对所述干法刻蚀设备的腔体进行清理。本申请的实施例能够在合适的时机进行腔体清理，以在保证晶圆良率的同时，降低制造成

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113808902 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 202110961934.1 (22)申请日 2021.08.20 (71)申请人 深圳天狼芯半导体有限公司

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