一种铜片表面处理方法.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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本发明提供一种铜片表面处理方法,使用喷砂工艺对铜片进行处理,将金刚砂悬浊液高速喷射到铜表面,以改变铜面表面形貌,消除铜片在加工过程中的条纹状缺陷;在去除铜表面缺陷(杂质、油渍、污渍、氧化)的同时,也能在铜片表面形成一定的粗糙度,为后工序(铜片氧化)增加一定表面积,提高DCB烧结的浸润性;然后利用激光将被二氧化钛包覆的纳米铜与喷砂后的铜片通过物理熔化的方式进行连接,在铜片喷砂处理后的一级粗糙结构上修饰、优化形成三级微纳结构,铜片表面粗糙程度可调控,使铜片表面的粗糙度具有均一性;且被二氧化钛包覆的纳

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113799002 B (45)授权公告日 2022.07.19 (21)申请号 202110977605.6 B24C 7/00 (2006.01)

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