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靶头、磁控溅射靶枪及磁控溅射系统.pdfVIP

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  • 2023-07-07 发布于四川
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靶头、磁控溅射靶枪及磁控溅射系统.pdf

    本发明公开了一种靶头、磁控溅射靶枪及磁控溅射系统，靶头包括：烟囱，与供气管路相连通，烟囱设置有用于监测磁控溅射靶枪工作状态的监测结构；磁体结构，安装于烟囱内，磁体结构用于产生各种磁场，磁体结构的上方安装有靶材；烟囱包括：烟囱中段，为导电材料制成，靶材位于烟囱中段内；烟囱下段和烟囱上段，均为绝缘材料制成，烟囱下段和烟囱上段分别与烟囱中段的两端相连接。本发明的靶头，溅射出的靶材原子不会沉积到烟囱上段和烟囱下段的内壁面上，从而减小了由于靶材原子沉积到烟囱的内壁面上形成的薄膜与靶材接触而造成短路的风险，

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113846304 B (45)授权公告日 2022.02.11 (21)申请号 202111419111.2 (56)对比文件 (22)申请日 2021.11.26

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