一种半导体器件加工方法.pdfVIP

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  • 2023-07-12 发布于四川
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本发明涉及半导体领域,更具体的说是一种半导体器件加工方法。包括以下步骤:S1:将金属筒安置在空管内,将金属筒上的金属柱I从空管的上部引出;S2:将橡胶塞安装在金属筒的下部,将金属柱II安置在橡胶塞上;S3:将金属柱II移动至金属筒的中心位置;S4:将盐水灌注至空管内部将空管填充,制作出半导体器件。所述半导体器件包括空管、金属筒、支撑座和防滑条,金属筒的前后两侧均设置有支撑座,每个支撑座上均粘接有多个防滑条,两个支撑座分别支撑在空管的内侧上部。加工出的半导体器件可以调整导电系数。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116417350 A (43)申请公布日 2023.07.11 (21)申请号 202310410409.X (22)申请日 2023.04.18 (71)申请人 赵启军 地址 071000 河

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