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本发明提供涂敷膜形成方法、涂敷膜形成装置和程序，提高基片面内的涂敷膜膜厚的控制性能。包括：涂敷工序，其对基片的正面的中心部供给涂敷液，使上述基片旋转以使上述涂敷液向该基片的周缘部扩展而形成涂敷膜；高温气体供给工序，其对旋转的该基片的背面的露出区域的一部分，供给温度比被供给了上述涂敷液的上述基片高的高温气体；膜厚分布调整工序，其使上述基片以第一转速旋转来调整上述基片的面内的上述涂敷膜的膜厚分布；和干燥工序，其在上述膜厚分布调整工序后，使该基片以与上述第一转速不同的第二转速旋转，来调整上述基片的整个
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116422550 A
(43)申请公布日 2023.07.14
(21)申请号 202310009218.2 B05C 11/08 (2006.01)
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