基于光学干涉技术测量样品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底.pdfVIP

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2023-07-15 发布于四川
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基于光学干涉技术测量样品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底.pdf

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本实用新型公开了基于光学干涉技术测量样品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底，包括二氧化硅层，所述二氧化硅层的底部设置有银反射层，所述银反射层的顶部和底部均固定连接有钛层，所述钛层的顶部与二氧化硅层的内壁固定连接。本实用新型通过顶层是二氧化硅层，可以更轻松地对其进行改性，比云母表面更有效地清洁这些复合材料表面，这些复合材料表面可以提前大量生产，并且在环境条件下或在真空下至少可以保持稳定数月，通过将银反射层埋入聚合物层和二氧化硅层，故此都可以进行调整，以适应表面的光学、电气、结构和机械特性，从而达到了

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214201078 U (45)授权公告日 2021.09.14 (21)申请号 202023222363.X (22)申请日 2020.12.28 (73)专利权人杭州表面力科技有限公司