基于HTCC工艺的相控阵辐射结构及其工作方法.pdfVIP

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2023-07-19 发布于四川
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基于HTCC工艺的相控阵辐射结构及其工作方法.pdf

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本发明公开了一种基于HTCC工艺的相控阵辐射结构及其工作方法,包括：将信号导入并传输至过渡腔的传输腔；改变信号模式并将信号传输至辐射腔的过渡腔；将信号辐射至空中并形成辐射场的辐射腔；配合各腔体完成辐射的匹配条栅；传输腔、过渡腔、辐射腔位于HTCC基板中；HTCC基板由多层带有金属化过孔和钨金属层的介质层组成，介质层根据金属化过孔的阵列排列堆叠，形成尺寸不同的各腔体；匹配条栅均匀分布于辐射腔四侧壁中间位置；传输腔底部设置有信号导入接口；传输腔、过渡腔与辐射腔为同心同轴的垂直互连腔体。以此方式，可以

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116454593 A (43)申请公布日 2023.07.18 (21)申请号 202310389020.1 (22)申请日 2023.04.12 (71)申请人北京遥感设备研究所地址 100