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? 溅射镀膜的方式很多,从电极结构上可分为二极溅射、三或四极溅射和磁控溅射。? 直流溅射系统一般只能用于靶材为良导体的溅射;? 射频溅射适用于绝缘体、导体、半导体等任何一类靶材的溅射;? 反应溅射可制备化合物薄膜;? 为了提高薄膜纯度而分别研究出偏压溅射、非对称交流溅射和吸气溅射等;? 对向靶溅射可以进行磁性薄膜的高速低温制备。
各种溅射镀膜类型的比较
一.二极溅射? 阴极靶由镀膜材料制成,成膜的基板及其固定架作为阳极,构成了溅射装置的两个极 。? 使用直流电源则称为直流二极溅射,因为溅射过程发生在阴极,故又称为阴极溅射。? 使用射频电源时称为射频二极溅射。? 靶和基板固定架都是平板状的称为
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