一种吸收层可调的激光冲击成形装置和方法.pdfVIP

一种吸收层可调的激光冲击成形装置和方法.pdf

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本发明涉及一种吸收层可调的激光冲击成形装置及成形方法,包括磁场施力系统、工作槽和激光喷丸成形系统,磁场施力系统一部分紧贴工作槽上方,对工作槽里的液体进行密封,激光喷丸成形系统位于工作槽上方。磁场施力系统通过对电流大小和方向的控制来调整线圈生成磁场的方向和大小,进而产生对环形磁铁不同的施力情况。本发明利用了通电线圈产生磁场与环形磁铁会产生作用力的特点,来对工作槽内的液体进行挤压,从而实现对液体吸收层厚度的调整,可适用于各种大尺寸变厚度高端结构件。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116460427 A (43)申请公布日 2023.07.21 (21)申请号 202310386955.4 B23K 26/352 (2014.01) (22)申请日 2023.04

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