JB_T 8946-2010真空离子镀膜设备.pdf

ICS 23.160J78备案号：28641——2010中华人民共和国机械行业标准JB/T 8946--2010代替 JB/T 8946—1999真空离子镀膜设备Vacuum ion coating plant2010-02-11 发布2010-07-01实施中华人民共和国工业和信息化部发布 JB/T 8946--2010目次前言范围.2规范性引用文件3术语和定义.型式与基本参数.结构型式。4.14.2基本参数，4.3型号5技术要求5.1设备正常工作条件设备的结构要求。5.25.3设备的制造要求5.4设备安全性5.5节能与环保.6设备检验及其品质评价6.1设备的检验6.2设备使用性能和经济效益质量承诺8标志、包装、运输和贮存8.1标志8.2包装8.3运输，8.4贮存 JB/T 8946--2010前言本标准代替JB/T8946-1999《真空离子镀膜设备》。本标准与JB/T8946—1999相比，主要变化如下：-对标准的范围进行了重新规定；-增加了第4章型式与基本参数和第7章质量承诺，在第6章中增加了设备的品质评价；增加并修改了5.2、5.4、5.5等条款；-对设备的主要技术参数进行了修改。本标准由中国机械工业联合会提出。本标准由全国真空技术标准化技术委员会（SAC/TC18）归口。本标准负责起草单位：大连远东真空技术有限公司。本标准参加起草单位：沈阳北宇真空设备厂、沈阳真空技术研究所。本标准主要起草人：陈大民、冯玉国、关秉羽、李春影。本标准所代替标准的历次版本发布情况为：JB/T 8946-1999。11 JB/T 8946-2010真空离子镀膜设备1范围本标准规定了真空离子镀膜设备（以下简称设备）的型式与基本参数、技术要求、设备检验及其品质评价、质量承诺以及标志、包装、运输和贮存。本标准适用于：-电弧蒸发离子镀膜设备；一电子束蒸发离子镀膜设备；磁控溅射离子镀膜设备；上述三类离子镀膜设备的组合。其他类型的具有离子镀膜特征的设备可参照执行本标准。2规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。GB/T191包装储运图示标志（GB/T191--2008，ISO780：1997，MOD）GB/T111641999　真空镀膜设备　通用技术条件GB/T13306标牌JB/T7673真空设备型号编制方法3术语和定义下列术语和定义适用于本标准。3.1镀膜源 coating source磁控溅射阴极，电弧阴极，蒸发埚等能提供气相镀膜原料的器件。3.2装 vacuum ion coating真空离子镀膜在真空条件下，利用低压气体放电，使由镀膜源提供的原料（原子、分子、微粒）被部分地离化，生成的正离子在偏压电场作用下，以适当的动能沉积在基片上，形成具有不同功能或特性的薄膜。3.3镀膜能力 coating capability镀膜设备在正常工作条件下，在基片上涂覆一种典型膜层（例如氮化钛），一个工作周期内，在基片上所能生成膜层的最大体积（最大可用的基片面积与平均膜厚之积）除以工作周期。工作周期为装卸工件时间、抽气时间、镀膜时间之总和。4型式与基本参数4.1结构型式设备主要由抽气系统、真空室、镀膜系统、电控系统、水冷系统、气动系统、供气系统等组成。4.2基本参数 JB/T 8946--2010设备的真空性能指标应满足表1的规定。表1参数名称参数数值极限压力01XsPa压升率≤6×10-1Pa/h抽气时间（从大气压抽至7×10-3 Pa）≤20min4.3型号设备的型号应符合JB/T7673的规定。5技术要求5.1设备正常工作条件设备应满足正常工作条件，如另有规定，制造者应与用户协商。设备的正常工作条件是：环境温度：10℃～35℃;相对湿度：≤80%冷却水进水温度：≤25℃；-冷却水质：城市自来水或相当质量的水；供电电源：380V三相五线制50Hz，或220V单相50Hz。5.2设备的结构要求5.2.1抽气系统设备的抽气系统由真空泵、抽气管道、阀门、真空测量仪表等组成。如果使用扩散泵作为主泵，应配置冷阱和节流阀。用于截止的阀门宜使用气动阀门或弹簧复位的电磁阀，不宜使用电动阀。在主泵和前级泵之间的管道上应设置真空测量规管座，用于监测真空泵的工作状态和真空系统的调试。在抽气系统的排气口应安装排气管道，对尾气集中处理，无害排放。5.2.2真空室真空室及其内部金属构件，如转架、挡板、衬板、管状加热器等，宜使用不锈钢制造。其他部件，如源材料、磁路、绝缘、密封、隔热等部件，按需要选用必要的材料，避免使用过多的放气量大的材料。一些特殊材料