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本发明提供一种半导体器件及其制造方法和电子装置,所述半导体器件包括:第一晶圆,在所述第一晶圆的表面具有第一键合层、阻挡件以及位于所述阻挡件顶部的限位件,其中所述阻挡件设置在所述第一键合层外围;第二晶圆,在所述第二晶圆的表面具有与所述第一键合层相对应的第二键合层,并在所述第二晶圆内具有与所述限位件对应的限位槽;所述第一晶圆的所述第一键合层和所述第二晶圆的所述第二键合层彼此共晶键合。与传统器件相比,通过在阻挡件的基础上增加限位件及限位槽,在控制反应量的同时可以控制共晶键合过程中的键合层的滑动,减小了
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116495695 A
(43)申请公布日 2023.07.28
(21)申请号 202310571575.8
(22)申请日 2023.05.17
(71)申请人 绍兴中芯集成电路制造股份有限公
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