JBT 7484-2007铝（Al）反射镜镀制工艺.pdf

ICS 37N 30备案号：207632007中华人民共和国机械行业标准JB/T 7484--2007代替 JB/T 7484—1994铝（AI）反射镜镀制工艺Coating techniques for aluminious reflector2007-05-29 发布2007-11-01实施中华人民共和国国家发展和改革委员会发布 JB/T 7484--2007目次前言。.III范围1 2规范性引用标准3术语和定义4反射镜分类.4.1外反射镜4.2内反射镜4.33金属-介质反射镜。5主要设备5.1真空镀膜机.5.2清洗机.6　工艺流程.7镀膜前的准备。7.1对辅料的要求..7.2真空室清理.7.3热子处理与安装。7.4零件清洗8镀膜..8.1膜料预熔8.2外反射镜与内反射镜的镀膜。8.3金属—一介质高反射镜的镀膜9质量检验、 JB/T·言本标准代替JB/铝（A1）反射镜镀制工艺》。本标准修订时删除了离子轰击部分的内容，将可见区保护膜（层）的镀制材料由一氧化硅（SiO）改成了二氧化硅（SiO2）。本标准由机械工业联合会提出。本标准由机械工业仪器仪表元器件标准化技术委员会归口。本标准由沈阳仪表科学研究院、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心负责起草。本标准的主要起草人：王银河、张辉、李延夫。本标准于1994年首次发布，本次为第一次修订。II JB/T 7484-2007铝（Al）反射镜镀制工艺1 范围本标准规定了光学零件真空镀铝的工艺流程、镀膜质量及主要参数控制。本标准适用于可见、紫外与近红外光谱区使用的光学零件真空镀铝反射镜，加介质保护膜的外反射镜与加保护漆的内反射镜，以及加镀多层介质膜层的金属-介质高反射镜。2规范性引用标准下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准。然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。GB/T11164一1999　真空镀膜设备通用技术条件JB/T8226.3-1999光学零件镀膜外反射膜JB/T8226.4—1999光学零件镀膜内反射膜3术语和定义下列术语和定义适用于本标准。3.1真空镀膜 vacuum coating真空中被加热的金属或介质材料达一定温度时发生汽化或升华，从本体逸出的分子（或原子）辐射、撞击、凝聚在特定位置放置的工件上而形成所需薄膜的工艺。3.2基片 substrate薄膜的载体。待镀膜的表面应是新加工的光学表面。3.3膜料 coating materials获得薄膜的初始材料。3.4热子与蒸发源 heating unit and source对膜料加热的单元是热子；热子与膜料组合则称为蒸发源。3.5辅料 assistant materials膜料以外的与镀膜工艺过程相关的辅助材料。如热子材料，清洗用的纱布、溶剂等。4反射镜分类4.1外反射镜基片的前表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜构成反射镜面。4.2内反射镜基片的后表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜加保护层（漆）构成反射镜面，光线通过零件进行反射。 JB/T 7484—20074.3金属~介质反射镜基片的前表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜加多层介质膜构成金属-介质高反射镜面。其结构表示为：G/[AI+ (LH) PJ/A式中:G基片;Al--铝膜;L、H-一低折射率、高折射率的/4 有效光学厚度的介质膜层。为使用光谱区的中心波长;p——L、H 的周期数，通常取 p=1 或2。p值增加可提高部分光谱区的反射，但同时使反射带变窄;A-空气。5主要设备5.1真空镀膜机选用光学工业用镀膜机。生产外、内反射镜的设备可不具备膜厚控制仪：生产金属介质高反射镜的设备必须有膜厚控制仪；设备安装工作条件应符合GB/T11164的规定。5.2清洗机选用光学工业用镀前清洗机。依据基片适用特性选用清洗剂（酸液，洗涤剂、有机溶剂）和超声波清洗及脱水干燥规范。允许采用保证质量的手工镀前清洗。6 工艺流程前期准备→待加工工件装人真空室→抽真空达 10~3Pa 量级→膜料预熔彻底除气→快速抽真空达10~3Pa量级→镀膜→充大气取件-→检验包装前期准备包括：基片清洗、真空室清理与热子安装和膜料处理与装料。7 镀膜前的准备7.1对辅料的要求擦拭用的棉花、纱布必须脱脂、洗净、干燥；乙醇乙醚等溶剂的纯度不低于分析纯。7.2真空室清理真空室内所有部件必须净化干燥，无油脂污染，不应用含气量大的材料制造附件，不应放人高蒸汽压的物品。真空室内壁及部件需用喷砂或砂纸擦拭以去掉积垢，清洗、干燥后备用。7.3热子处理与安装热子用的螺旋状钨丝用苛性钠溶液煮沸去掉氧化皮，清洗干燥后备用。热子安装