JBT 7484-1994铝(AL)反射镜镀制工艺.pdf

JB中华人民共和国机械行业标准JB / T 7484-94铝（A1)反射镜镀制工艺1995-05-01实施1994-09-08发布中华人民共和国机械工业部发布 中华人民共和国机械行业标准JB / T 7484—94铝(A1)反射镜镀制工艺1 主题内容与适用范围本标准规定了光学零件真空镀铝的工艺流程、镀膜质量及主要参数控制。本标准适用于可见、紫外与近红外光谱区使用的光学零件真空镀铝反射镜：加介质保护膜的外反射镜与加保护层(漆)的内反射镜，以及镀介质膜堆的金属一介质高反射镜。2 引用标准GB 1320 光学零件镀膜 外反射膜GB 1322 光学零件镀膜 内反射膜GB 11164 真空镀膜设备通用技术条件3术语3.1 真空镀膜真空中被加热的金属或介质材料达一定温度时发生汽化或升华，从本体逸出的分子（或原子）辐射撞击、凝聚在特定位置放置的工件上面形成所需要的薄膜,这一工艺称为真空镀膜。3.2 基片薄膜的载体。待镀膜的表面应是新加工的光学表面。3.3 膜料获得薄膜的初始材料。3.4热子与蒸发源对膜料加热的单元是热子；热子与膜料组合则称为蒸发源。3.5辅料膜料以外的与镀膜工艺过程相关的辅助材料。如热子材料，清洗用的纱布、溶剂等。4反射镜分类依据反射镜的性能分为三类：4.1外反射镜基片的前表面是镜面，待镀麒表面镀铝膜加介质保护膜构成反射镜面。4.2内反射镜基片的后表面是镜面。待镀膜表面镀铝膜加保护层(漆)构成反射镜面，光线通过零件进行反射。4.3金属介质高反射镜基面的前表面是镜面。待镀膜表面镀铝膜加多层介质膜构成金属一介质高反射镜面。其结构裘示为：1994-09-08批准1995-05-01实施1 JB / T. 7484-94G / [AI+(LH)P J / A其中：G——基片;Al--铝膜;L、H—低折射率、高折射率的 入。/ 4,有效光学厚度的介质膜层。入。为使用光谱区的中心波长;p--L、H 的开期数。通常取 P=1 或 2,P 值增加可提高部分光谱区的反射,但同时使反射带变窄;A-空气。5 主要设备5.1 真空镀膜机选用光学工业用镀膜机。生产外、内反射镜的设备可不具备膜厚监控仪；生产高反射镜的设备必须有膜厚监控仪；设备安装工作条件应符合GB11164规定。5.2清洗机选用光学工业用镀前清洗机。依据基片适用特性选用清洗剂(酸液、洗涤剂、有机溶剂)和超声波清洗及脱水干燥规范。允许采用保证质量的手工镀前清洗。6 工艺流程10Pa)离子轰击 -快抽真空达 10-3Pa 量级 -→ 镀膜 →充大气取件 -→ 检验包装＊ 含基片清洗、真空室清理与热子安装和膜料处理与装料。7镀膜前准备7.1 对辅料的要求擦拭用的棉花、纱布必须脱脂、洗净、于燥；乙醇乙醛等溶剂的纯度不低于分析纯。7.2真空室清理真空室内所有部件必须净化干燥，无油脂污染，不应用含气量大的材料制造附件，不应放入高蒸汽压的物品。真空室内壁及部件须用喷砂或砂纸擦拭以去掉积垢，清洗、干燥后备用。7.3热子处理与安装热子用的螺旋状钨丝用苛性钠溶液煮沸去掉氧化皮，清洗干燥后备用。热子安装位置要推确、牢固、且不能受力扭曲。7. 4零件清洗与离子轰击清洗的作用是使零件脱脂净化；离子轰击是使待键表面吸附的气体和水汽解吸以获得活化表面。7.4.1 脱脂净化质量检验用哈气成像法。处理过的净化表面哈气时应呈均匀的“黑色”哈气像。7.4.2离子衰击的选择7.4.2.1 轰击参数2 JB / T 7484-94离子轰击参数选择的原则是高电压、大电流和短时间。Φ450mm真空室的推荐参数为：轰击电压：35kV；轰击电流：50～80 mA;轰击时间：5～15 min。7.4.2.2轰击的安排为减少活化表面的再污染，镀膜距离子轰击的时间应尽可能的短。8 镀膜8.1膜料预熔预熔应逐渐加热，彻底除气。熔化蒸发的材料应熔。8.2 外反射镜与内反射镜的镀膜8.2.1铝膜最佳制备条件：a，高纯膜料，铝的纯度不低于 99.99%；imb. 高真空蒸发,镀膜期间真空度不得低于 3.99 × 10Pa;c.快速蒸发,要在 5 s之内完成;d。 冷基片,基片温度为室温;e．小的蒸气入射角；f．适宜的铝膜厚度,厚度约为 70～80 nm，透射比(率)在 10-*以下。8.2.2 保护膜(层)8.2.2.1外反射镜的保护膜在真空室内镀透明介质膜，保护膜要在镀完铝膜后尽快蒸镀。保护膜的光学厚度为使用波段中心波长的1／2，偏离会使反射带中心位移；若镀成高级次，则使反射带变窄。可见区使用的反射镜,推荐膜料为一氧化硅(SiO);紫外区使用的,推荐膜料为氟化镁(Mg F2)。8.2.2.2内反射镜的保护层通常是涂漆，在真空室外进行。漆的选择除要能有效保护外，而且不应与铝膜反应而降低铝膜的光学性能。8.3 金屑介质高反射镜的镀膜8.3.