JBT 8270-1999静电复印光导体膜层厚度 测量方法.pdf

UDC 621. 621. 1 :620. 1N 47中华人民共和国国家标准GB 10998—89TB/T 8270-99静电复印光导体膜层厚度测量方法Standard test method for coating thickness measurementof electrostatic copying photoconductor1989-03-31发布1990-01-01实施国家技术监督局发布 中华人民共和国国家标准静电复印光导体膜层厚度测量方法GB 10998--89Standard test method for coating thickness measurementof electrostatic copying photoconductor本标准参照采用ISO2360《非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度测量-一涡流法》。主题内容与适用范围本标准规定了用涡流测厚仪无损测量非磁性金属基体的静电复印光导体膜层厚度的原理、仪器、仪器校准、操作程序、精度要求、数据处理以及测量结果和报告。本标准适用于光导鼓和光导版膜层厚度的测量。本标准不适用于测量多层结构光导体中任一单层的厚度。2 引用标准GB 4957非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度测量一一涡流方法。ZB Y 258静电复印机 ·术语。3原理涡流测厚仪及其测头系统所产生的高频电磁场，使置于测头下面的导体产生涡流，其振幅和相位是导体与测头之间的光导体膜层厚度的函数。4　仪器高频涡流测厚仪基本性能:测量范围0～250μm;分辨率 2um;测头直径不大于 3mm。5 仪器的校准5. 1 校准用的标准物每台仪器均应按制造广说明书规定选用校准用的标准物。校准用的标准物是已知厚度的标准薄膜或已知膜层厚度的标准光导体。5.1.1.标准薄膜5.1.1.1标准薄膜是经过验证已知均匀厚度的膜片，通常是用非弹性塑料薄膜制成的。5.1.1.2为防止产生测量误差,必须使标准薄膜与基体紧密接触。标准薄膜易产生压痕或污损,故须经中华人民共和国机械电子工业部1989-03-21批准1990-01-01实施1 GB 10998—89常更换。5.1.2标准光导体标准光导体是一个经过验证，已知厚度、镀(涂)层均匀的光导版(鼓）。光导体基体和膜层表面粗糙度的 R.值应不大于 0.1。5.2校正程序按第6章所述的操作程序进行校准。6操作程序6.1每台仪器均应按制造厂的说明书规定进行操作。测量前要在测量场地校准仪器。多次间断测量用的仪器，每小时至少校准一次。6.2验证测量试样前须进行下列验证工作。6.2.1试样金属基体和标准物金属基体的电学性质及曲率必须相同。为此用标准薄膜测量在这两个基体上的读数，若两个读数相同，则认为两个基体的上述性质相同。6.2.2试样的金属基体须有足够厚度。如果其厚度小于0.1mm，可在试样下方衬一块与试样金属基体电学性质相似、厚度不小于1mm的金属衬垫，按6.2.1的方法校正试样金属基体过薄对测量造成的影响。6.3测量光导鼓的膜层厚度时，特别要注意使测头对鼓面保持垂直。为此可采用各种形式的定位装置或用凹形定位块（见图1)。图！定位块示意图6.4测量前，应清除试样表面上的附着物，如尘土、油脂或腐蚀产物等。6.5测头施加于试样表面的压力应均匀一致，被测试样不应有变形。为此可采用适当的夹具和衬垫6.6测量次数测量取点方法按光导体(鼓、版)展开示意图（见图2、3)进行，取9个图形小区，小区的直径约为10mm，每个小区取3个測值，共测27 次。2 GB 10998---89鼓长鼓长·2121鼓的轴向2(60数据Y.+图？光导鼓展开示意图图..- 3.6.--33.为各小区测量值的算术平均值版宽版宽/210 - 15K版版长2图3　光导版展开示意图图中,i1--3、1~3、,-3为各小区测量值的算术平均值。 GB 10998--89精度要求测量精度取决于仪器性能、操作和校准。必须使测量误差保持在士10%以内。膜层厚度在3um及其以下时，将达不到此精度要求。8数据处理8.1计算出各小区3次测量结果的算术平均值(al~31~3、℃~3)。8.3计算结果均按数字修约规则，以μm为单位，取整数。9测量结果的报告报告应包括下列内容：本标准号;a.鉴别试样的必要说明；c． 本标准未规定的操作；d。 各小区的算术平均值（(ai~3、bl~3-c1~3)和×与 Y方向每 3 个小区的算术平均值(X1~3)、(1~3)及其偏差土4(0.8s)土^0.8s可能出现影响结果的任何情况。附加说明：本标准由天津复印技术研究所归口并负责起草。本标准主要起草人灡忆铭、曹英。 10998-89GB中华人民共和国国家标准静电复印光导体膜层厚度测量方法GB 10998—89机械工业出版社出版(北京阜成门外百万庄南里一号