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用于静电卡盘的改进的抗等离子体涂层.pdfVIP

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  • 2023-08-02 发布于四川
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用于静电卡盘的改进的抗等离子体涂层.pdf

    用于生产在制造半导体部件的等离子体蚀刻室内使用的装置的方法，所述方法包括提供形成所述装置的基材的主体，在所述主体的表面上施加第一涂层，其中所述第一涂层包含金属和/或金属合金薄膜涂层以形成金属涂布的主体，在所述金属涂布的主体上施加第二涂层，其中所述第二涂层包含陶瓷涂层，其中所述第二涂层与所述第一涂层至少部分重叠。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116529415 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202180081950.X (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公

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