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本发明涉及清洗剂技术领域，尤其涉及一种半水基清洗剂及其制备方法。该半水基清洗剂包括如下质量百分比的原料制备而成：去污剂5～30％，发泡剂1～15％，稳泡剂1～5％，增效剂1～10％，乳化剂1～30％，酸度调节剂0～3％，螯合剂0.1～2％，余量为溶剂；所述溶剂包括有机溶剂和纯化水，所述纯化水在所述溶剂中的质量≥50％。本方案中，通过限定各原料的类型和用量混合后获得的半水基清洗剂，同时确保制剂以水为主溶剂，能解决非水溶性成分的水溶问题，降低了整体刺激性和成本，更为环保；并且采用少量的清洗剂与水混合
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116515564 A
(43)申请公布日 2023.08.01
(21)申请号 202310487939.4 C11D 3/33 (2006.01)
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