一种真空磁控溅射镀膜设备.pdfVIP

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  • 2023-08-06 发布于四川
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本实用新型创造提供了一种真空磁控溅射镀膜设备,包括镀膜箱、以及镀膜箱上转动安装的门体、以及镀膜箱内设置的旋转机构;所述旋转机构包括镀膜箱内转动安装的转盘、以及转盘上设置的用于承载工件的承载架;所述门体边缘设有外裙板,镀膜箱上对应外裙板设有内裙板,所述内裙板上设有用于固定门体的夹紧机构。本实用新型创造结构简单,易于操作,且密封性能很好,通过设置多种固定结构,使门体可以始终稳定的与镀膜箱贴合,大大提高了这种设备运行的稳定性和可靠性;通过在镀膜箱上设置夹紧机构,大大提高了这种设备的密封性能,当需要密封

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210012893 U (45)授权公告日 2020.02.04 (21)申请号 20192

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