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- 2023-08-06 发布于四川
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本实用新型提供一种膜层厚度均匀的真空镀膜装置，包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、靶罩与基片，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、靶罩与基片均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁上，所述靶罩设置于所靶材上方和侧面，形成一门型，将所述靶材覆盖于所述靶罩内，同时在靶罩的上方设有一开口，所述开口与靶材在腔体上的投影相一致，所述基片设置于所述靶材上方50‑100mm的范围内。在靶罩上设置有挡块，所述挡块外部连接有一旋钮，所述旋钮上设有一把手，所述把手位于真空
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210012892 U
(45)授权公告日
2020.02.04
(21)申请号 20182
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