第四章界面的稳定性理论.pptVIP

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  • 2023-08-09 发布于广东
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第四章界面的稳定性理论 第一页,共二十一页,2022年,8月28日 概述 人们关心晶体生长过程中的界面是否稳定,不仅是因为它涉及到晶体形态的理论研究,而且还涉及到晶体生长过程是否能人为可控以及长成的晶体中溶质的分布情况。 实验证明,只有当界面处于稳定的条件下.晶体的生长速率才是可以控制的.也只有平坦而稳定的界面可能长出质最台格的晶体。所以,不论以何种方法生长晶体,都要求界面是一稳定界面。 第二页,共二十一页,2022年,8月28日 界面的概念与性质 界面稳定性 组分过冷 枝晶生长 1 2 3 4 本章课程 5 熔化界面的稳定性 第三页,共二十一页,2022年,8月28日 第一节:界面的概念与性质 1、界面形状的保守性和界面性 保守性:生长过程中的实际界面总是与此保持几何上的相似,只是尺寸不断增加。 晶体生长本身是一个相当复杂的动力学过程,既存在扩 散输运的复杂传输过程。又存在许多生长和环境因素的干扰,因此实际存在的界面,不仅要满足扩散方程.而且还必须具备稳定性。 稳定性:就是要求生长过程中在界面上一旦出现了微小的干扰,这种干扰可随着时间的增加而逐渐消失。 2、检验稳定性的“干扰技术” 基本思想:在由扩散方程求得的运动界面上.叠加上一个微小的形态干扰函数,这样就得到了受干扰后的运动界面方程。我们可以根据干扰后的运动界面仍应满足扩散方程这一性质

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