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- 2023-08-09 发布于四川
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本公开提供了一种离子注入设备，该离子注入设备包括工艺腔室和与所述工艺腔室连接的分析磁场；所述工艺腔室与所述分析磁场之间具有离子束入口和调节装置，所述调节装置被配置为控制所述离子束入口的开启区域，以及调节开启区域的开启程度。本公开还提供了一种离子注入设备的控制方法。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111508808 A
(43)申请公布日
2020.08.07
(21)申请号 20201
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