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偏振片的制造方法与流程 摘要: 偏振片是一种特殊的光学元件，能够将自然光分解成具有不同偏振方向的偏振光，广泛应用于各种光电领域。偏振片的主要制造方法包括拉伸法、晶体法和涂层法。本文详细介绍了这三种方法的制造流程和各自的特点。 1. 拉伸法 1.1 原理 拉伸法是一种将未拉伸的聚合物系薄片通过拉伸而加工成具有优异的光学各性能的偏振片的方法。由于连续拉伸所产生的各种各样的变形，使得聚合物链的有序结构重新排列，从而改变了材料的各种物理性质，同时也使其具有了一定的偏光性质。对于高聚物薄膜而言，拉伸法偏振片的基本原理是在自然状态下方向无规则、没有取向的链分子，在外力的作用下，只能向某一固定方向运动，形成了一定的有序取向。这样，原先的薄膜就像“拉直”的铁杆一样，具有了较高的分子有序度，因此导致了很好的偏振性能。 1.2 制造流程 拉伸法偏振片的制造流程通常包括：挤出塑料片、拉伸改质、调节切割、修整表处理、偏振层涂敷等步骤。 挤出塑料片 将预先不同成份的聚合物混合后熔融挤出成膜，制得塑料薄膜。 拉伸改质 将预先铸造好的塑料薄膜，使用辊子将其送入拉伸机，设定不同的拉伸比例和拉伸温度，用力拉伸，一遍遍的拉伸和高温热处理，使其内部的链状结构逐渐发生改变，偏振决定于膜受到的拉伸方向，也就是其取向方向。 切割调节 将拉伸好的薄膜进行切割、调整，使其合适，便于制作不同规格型号的偏振片。 修整表处理 对于表面缺陷，实行修整，使其表面光洁度大幅提升。 偏振层涂敷 将偏振复合介质制成均匀、安装张紧的薄膜，与提前制作好的基础薄膜铸装合并。偏振层需要有一个很好的对外观的控制和良好的偏振性能。 2. 晶体法 2.1 原理 晶体法偏振片的制备是利用晶体的双折射特性来实现，它是从天然的氰酸铜晶体转化而来的。氰酸铜晶体有良好的各向同性，而不是像有机分子那样排列有序，因此只要通过一种特殊的热退火工艺，就能将表面状态有少量缺陷的氰铜折射率进行差异化的处理，使它具有类似于拉伸法膜的偏振特性。 2.2 制造流程 晶体法偏振片的制备步骤如下： 氰酸铜晶体的选择和制备 选择最优的氰酸铜晶体进行制备，并根据实际情况对其结构进行调整。 加热处理 将氰酸铜晶体进行高温处理，并在一定的条件下进行冷却处理，使其具有较好的折射率差异。 切割加工 将偏振晶体进行合适的规格大小切割加工，保证其有较好的平整度和精度。 光学测试 对制定好的晶体进行重要的光学性能测试，保证制备的偏振片具有很好的光学性能。 3. 涂层法 3.1 原理 涂层法偏振片主要采用将无色透明的聚合物浸泡于某种特殊色素溶液中，在此基础上进行涂层处理来实现。这种偏振片具有很好的效果，且制造难度较低，生产速度快，成本较低，已被广泛应用。 3.2 制造流程 涂层法偏振片的具体制作流程如下： 选取适合的基质 选择适当的聚合物材料，将其加工制成有规定厚度的透明膜基质，表面丝状排列，处于比较有序的状态。 均匀分散涂层 将制备好的色素分散于溶液中，再将其浸入造偏液，用细致的机械设备涂覆在制作好的无色透明聚合物基质上。 挥发干燥 将浸泡涂层后的膜基质进行挥发干燥处理，使其中的溶剂挥发干燥。 切割与规格确认 制备完成后，需要进行消光比测试及其他光学测试等项指标确认，最后进行切割和规格确认。 4. 总结 本文主要介绍了偏振片的制造方法及其流程。拉伸法、晶体法和涂层法是目前制备偏振片的主流方法。其中，拉伸法可生产出高质量、高透光度的偏振片，晶体法有着生产技术难度较高但光学性能优良的特点，而涂层法成本低廉、生产效率高、工艺简单，但其性能得到了较大限制。未来，随着新型材料及新技术的不断发展，可能会涌现出更好更优秀的偏振片制备方法及技术。