化学法制备黑色单晶的研究.docxVIP

化学法制备黑色单晶的研究 1 u3000ln、lv晶片的化学还原工艺 资酸资（ln）和酸资（l-3000，l）是优良的压电材和电离作用。这是一个非常重要的多功能晶体材料，尤其是作为电离作用的电极板材料，广泛用于生产声表面波（saw）和体波（baw）装置。LN、LT晶体较大的压电系数可以制作低插入损耗的SAW滤波器,但是光透过和高热释电等性能也给SAW器件的制作工艺带来很多不便。LN、LT晶体的热释电系数分别为4×10-5C/m2·K和23×10-5C/m2·K。在SAW或BAW器件生产过程中,高热释电系数使得晶片表面很容易形成大量静电荷,这些电荷会在叉指电极间、晶片间、晶片与工装间自发释放。当静电场足够高时,静电荷释放容易损伤晶片(如开裂、微畴反转等),烧毁叉指电极(制作高频器件时尤甚),因此大大增加了器件的次品率。在传统压电晶片上进行光刻工艺时,材料的透光性导致晶片背面形成漫散射,从而降低了光刻电路的衬度,导致失真的线宽。针对SAW器件制作中存在的这些问题,近年来国际上兴起对LN、LT晶片进行化学还原的工艺。经由这种工艺处理过的LN和LT晶片,基本上都呈黑色,因此也称为黑片。我们在国内率先开展LN和LT黑片研究,成功地制备了弱热释电效应LN和LT晶片,并且形成了自己的工艺技术。本文介绍了LN、LT黑片(简称BLN和BLT)制作工艺,讨论了还原条件对晶片外观、光吸收等性能的影响。