低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜.pdf

低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜 杨永强 ;段羽 ;陈平;赵毅 【摘要】In order to avoid the damage of high reaction temperature to OLEDs, the low-temperature atomic layer deposition (ALD) process was introduced to deposite Al2 O3 film for the encapsulation of OLEDs. However, the low temperature condition would decrease the uniformity of the film. In or-der to suppress the generating of vacancy, the pumping gas time(PGT) was increased during each cycle to discharge the products adequately. The micrographs, calcium test and lifetime test of OLEDs show that the film deposited at low temperature is almost the same with that deposited at high temperature, and the temperature effect to OLEDs is not negligible. The water vapor transmission rate (WVTR) of the film can reach to 8. 6 × 10- 4 g / (m2 ·d), so the lifetime of the device with the encapsulation layer can be increased effectively.%为了克服传统的原子层深沉 积反应温度高于有机材料的玻璃化温度对有机电致发光器件性能产生破坏的缺点, 使用低温原子层沉积的方法沉积了 Al2 O3 薄膜,成功地实现了对 OLED 的薄膜封 装。实验中为了抑制环境温度对 ALD 薄膜均匀性的影响,增加了每个反应周期的抽 气时间,从而可以充分地排出反应副产物,抑制了空位的形成,使得薄膜具有较高的均 匀性和致密性。微观形貌分析、钙测试以及寿命测试表明,通过增加 ALD 的 PGT, 低温制备的薄膜与高温制备的薄膜的均匀性差别较小,且制备过程对 OLED 器件的 光电性能无明显影响。低温制备的薄膜水汽透过率 (WVTR) 可以达到 8.6×10-4 g/(m2·d),能够有效地提高有机电致发光器件的寿命。 【期刊名称】《发光学报》 【年(卷),期】2014(000)009 【总页数】6 页 (P1087-1092) 【关键词】原子层沉积;薄膜均匀;低温 【作者】杨永强 ;段羽 ;陈平;赵毅 【作者单位】集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科 学与工程学院，吉林 长春 130012;集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实 验区 吉林大学电子科学与工程学院，吉林 长春 130012;集成光电子学国家重点联 合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科学与工程学院，吉林 长春 130012;集成 光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 吉林大学电子科学与工程学院，吉 林 长春 130012 【正文语种】中 文 【中图分类】TN383+.1;TN873.13 有机电致发光二极管 (Organic light-emittingdiode,OLED) 由于同时具备自发光、 对比度高、视角宽、响应速度快、使用温度范围广以及可柔性制作等优异特性,被 认为是下一代的平面显示技术。但 OLED 的产业化目前还存在着诸多问题,其中器 件的寿命是制约 OLED 发展的重要瓶颈。日本学者 C.Adachi 研究发现,空气中的 水氧对器件的寿命有较大的影响,在大气环境中 OLED 的发光强度在 150 min 内会 下降 99%[1] 。其主要原因是 OLED 器件工作时要从阴极注入电子,因此阴极应具有 较低的功函数,但满足这一条件的金属,如铝、镁、钙等,一般比较活泼,易于与空气中 的水汽发生反应。另外,水汽还会与空穴传输层以及电子传输层发生化学反应,这些 反应都会引起器件失效。因此,为延长 OLED 的寿命,应对其进行有效的封装,使器件 的各功能层与大气中的水