氧化物靶材的制备及研究进展.docxVIP

? ? 氧化物靶材的制备及研究进展 ? ? 付钰斌,宁洪龙,邹文昕,吴振宇,张康平,郭晨潇,刘丁荣,侯明玥,姚日晖,彭俊彪 （华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室，高分子光电材料与器件研究所，广东 广州 510641） 随着激光、离子束等技术发展，研究人员发明了多种工艺制备氧化物薄膜材料，而磁控溅射镀膜技术由于其在大面积镀膜以及性能参数易调控上的优势，成为了工业及实验室镀膜的主流方式。通过该技术可以制备出高性能氧化物薄膜，以达到液晶屏、触摸屏、太阳能电池等领域的应用要求。 在磁控溅射技术中，氧化物薄膜是通过电子与等离子体轰击对应氧化物靶材进而在基片上沉积获得［1］，因此薄膜各项性能与靶材质量息息相关。相比于通过金属靶材反应沉积成膜，直接使用氧化物靶材能减少靶材中毒。氧化物靶材是陶瓷靶材的其中一种，随着光电器件产业的发展成为了一种关键性基材，但业界对其形状、组分等方面有严格的应用要求，靶材制备难度较大。近年来我国靶材产业化取得了很大进展，并涌出了多家具有较强市场竞争力的靶材厂商，但在高端器件生产应用方面与日本、德国等国相比，我国氧化物靶材产业仍然是一大短板。 目前，氧化物靶材制备以素坯成型、烧结两大工艺为主体。本文以显示行业氧化物靶材作为重点，结合实验室研究与工业生产对靶材结构、性能需求，对两大工艺分别进行分析，并对目前氧化物靶材的市场现状与发展趋势进行了总结。 1 氧化